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| 商品编码 | 84862021.00 |
| 商品名称 | 制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 |
| 商品描述 | 制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置化学气相沉积装置(CVD) |
| 英文名称 | Chemical Vapour Deposition(CVD)equipment for the manufacture of semiconductor devices or of electronic integrated circuis |
HS编码 84862021.00 申报实例信息,收录数 32 条
| HS编码 | 商品名称 | 商品规格 |
|---|---|---|
| 84862021.00 | 减反射膜制造设备(新格拉斯牌) | SINGULAR PECVO 采用化学气相沉积法 |
| 84862021.00 | 低压化学气相沉积氧化锌镀膜系统 | TCO 1200 |
| 84862021.00 | PECVD 减反射膜制造设备 | SINA L ext Turbo |
| 84862021.00 | 金属有机物化学气相淀积设备 | 用于制造外延片|由压力控制,温度控制,反应室等子系统通过计算机软件连接组成,可按照设计需求独立设定气流,压力,温度等工艺参数值,制备满足设计需求的外延片|VEECO牌|K465i |
| 84862021.00 | PECVD减反射膜制造设备 | 备;备;centrotherm牌;非标 |
| 84862021.00 | 原子层沉积系统 | ;;;ALD-150LX |
| 84862021.00 | 减反射膜制造设备 | E2000 HT410-4(4),化学气相沉积 |
| 84862021.00 | 有机金属化学气相沉积炉 | 用于生产LED高亮度蓝绿光外延片|用于生产LED高亮度 |
| 84862021.00 | 制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 | 化学气相沉积装置(CVD) |
| 84862021.00 | 电浆辅助化学气相沉积仪(旧) | 用于LED晶片SIO2沉积制程|该机台使用电浆的辅助能 |
所属分类及章节、品目