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| 商品编码 | 84862021.00 |
| 商品名称 | 制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 |
| 商品描述 | 制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置化学气相沉积装置(CVD) |
| 英文名称 | Chemical Vapour Deposition(CVD)equipment for the manufacture of semiconductor devices or of electronic integrated circuis |
HS编码 84862021.00 申报实例信息,收录数 32 条
| HS编码 | 商品名称 | 商品规格 |
|---|---|---|
| 84862021.00 | 金属有机物化学气相沉淀炉 | (ICCCS19X2/生产半导体晶片用) |
| 84862021.00 | 化学气相沉积设备 | (旧)(制作半导体专用) |
| 84862021.00 | 化学气相沉积设备/NOVELLUS/在 | (D15498A) |
| 84862021.00 | 金属有机物化学气相沉积设备 | D-180 |
| 84862021.00 | 金属有机源气相沉积设备 | D300 |
| 84862021.00 | 镀膜机 | COATING MACHINE |
| 84862021.00 | 化学气相沉积设备/WJ牌 | WJ999 |
| 84862021.00 | 射频等离子增强化学气相沉积系统 | P600 |
| 84862021.00 | 金属有机物化学气相沉积系统 | CCS 19X2 Flip Top |
| 84862021.00 | 金属有机物化学气相沉积台 | E450LDM |
所属分类及章节、品目