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| 商品编码 | 84862021.00 |
| 商品名称 | 制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 |
| 商品描述 | 制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置化学气相沉积装置(CVD) |
| 英文名称 | Chemical Vapour Deposition(CVD)equipment for the manufacture of semiconductor devices or of electronic integrated circuis |
HS编码 84862021.00 申报实例信息,收录数 32 条
| HS编码 | 商品名称 | 商品规格 |
|---|---|---|
| 84862021.00 | 气体混合柜成套散件/RESI | 化学气相沉积设备，将沉积薄膜的气体按照要求混合 |
| 84862021.00 | 化学气相沉积设备 | CONCEPT ONE |
| 84862021.00 | C-1淀积炉 | 型号C1 |
| 84862021.00 | IC淀积炉 | 型号7000VTR,旧设备 |
| 84862021.00 | 钨膜化学气相沉积设备 | C3 Altus NOVELLUS牌 |
| 84862021.00 | 太阳能减反射膜制造设备 | Centrotherm牌,E2000 HT 410-4(4) |
| 84862021.00 | (旧)常压化学气相沉积设备 | 在硅片表面上沉积一层二氧化硅薄膜;;Watkins-Johnson |
| 84862021.00 | 外延炉 | 用于半导体生产;使硅片上产生薄膜;LPE;PE2061S |
| 84862021.00 | 等离子增强化学气相沉积硅镀膜系统主机 | 镀非晶和微晶膜,品牌:OERLIKON,型号:KAI MT |
| 84862021.00 | 等离子增强化学气相沉积硅镀膜系统 | 用来镀非晶和微晶膜;品牌:OERLIKON SOLAR;型号:KAI MT |
所属分类及章节、品目