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| 商品编码 | 84862041.00 |
| 商品名称 | 制造半导体器件或集成电路用等离子体干法刻蚀机 |
| 商品描述 | 制造半导体器件或集成电路用等离子体干法刻蚀机 |
| 英文名称 | Dry plasma etching for the manufacture of semiconductor devices or of electronic integrated circuis |
HS编码 84862041.00 申报实例信息,收录数 42 条
| HS编码 | 商品名称 | 商品规格 |
|---|---|---|
| 84862041.00 | 干式光阻去除机/Mattson牌 | ASPEN-II ICP(Used tool) |
| 84862041.00 | 等离子体刻蚀机 | M42200-2/UM |
| 84862041.00 | 深干法硅微结构离子刻蚀机 | SYSTEM100ICP180 |
| 84862041.00 | 干法蚀刻机 | NE-550 |
| 84862041.00 | 离子刻蚀微调机 | SFE-6430C |
| 84862041.00 | 金属蚀刻机 | TE-8500S ESC |
| 84862041.00 | 干法蚀刻装置 | 490利用等离子蚀刻 |
| 84862041.00 | 等离子体干法刻蚀机 | 2300型 LAM牌 |
| 84862041.00 | 多晶硅蚀刻机 | TCP-9408SE/旧设备 |
| 84862041.00 | 等离子干法刻蚀机 | EMAX CENTURA AP APPLIED牌 |
所属分类及章节、品目