商品编码 | 84862041.00 |
商品名称 | 制造半导体器件或集成电路用等离子体干法刻蚀机 |
商品描述 | 制造半导体器件或集成电路用等离子体干法刻蚀机 |
英文名称 | Dry plasma etching for the manufacture of semiconductor devices or of electronic integrated circuis |
HS编码 84862041.00 申报实例信息,收录数 42 条
HS编码 | 商品名称 | 商品规格 |
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84862041.00 | 刻蚀机 | (旧)1994年(制作半导体专用) |
84862041.00 | 干式蚀刻机 | (制作半导体专用) |
84862041.00 | 电浆处理设备 | IPC-1000,LINCO牌应用真空电浆技术利用气体离子化 |
84862041.00 | 干式蚀刻机 | system100-ICP380 |
84862041.00 | 干法蚀刻设备 | 型号:FLEX 45 DD |
84862041.00 | 多晶硅蚀刻机/AMATC牌/用于晶圆生产蚀刻工艺 | Centura 5200 Poly 8 inch |
84862041.00 | 金属蚀刻机/LAM牌 | Alliance TCP9608PTX 2ch |
84862041.00 | IC刻蚀机 | 型号P5000,旧设备 |
84862041.00 | 蚀刻机 | 型号:Centura 5200 |
84862041.00 | 氧化物蚀刻机 | UNITY Ver 2 85DI |
所属分类及章节、品目