商品编码 84862022.00  
商品名称 制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置
商品描述 制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置物理气相沉积装置(PVD)
英文名称 Physical Vapour Deposition(PVD)equipment for the manufacture of semiconductor devices or of electronic integrated circuis
HS编码 84862022.00 申报实例信息,收录数 26 条
HS编码 商品名称 商品规格
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