您查询的相关hs编码 4 条,您的查询关键词 32099010
HS编码 | 品名 | 实例汇总 | 申报要素·退税 | 编码比对 |
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32099010.00
(已作废)
推荐查询: 32099010 |
以环氧树脂为基本成分的油漆及清漆 | 15条 | 查看详情 | -- |
32099010.90 | 其他分散于或溶于水介质的以环氧树脂为基本成分的油漆及清漆(包括瓷漆及大漆),施工状态下挥发性有机物含量大于420克/升的除外
(其他分散于或溶于水介质的以环氧树脂为基本成分的油漆及清漆(包括瓷漆及大漆),施工状态下挥发性有机物含量大于420克/升的除外) [Other with epoxy resin as the basic composition of the paint and varnish;Including enamel and Chinese lacquer,dispersed or dissolved in water medium] |
7条 | 查看详情 | 对比-32099010.00 |
32099010.10 | 分散于或溶于水介质的以环氧树脂为基本成分的油漆及清漆(包括瓷漆及大漆),施工状态下挥发性有机物含量大于420克/升
(分散于或溶于水介质的以环氧树脂为基本成分的油漆及清漆(包括瓷漆及大漆),施工状态下挥发性有机物含量大于420克/升) [With epoxy resin as the basic composition of the paint and varnish,construction condition of volatile organic matter content is more than 420g/l;Including enamel and Chinese lacquer,dispersed or dissolved in water medium] |
0条 | 查看详情 | 对比-32099010.90 |
32099010.20 (增) | 同时满足以下指标的用于集成电路生产的防反射薄膜生成液:挥发性有机物含量>700g/L,反射值(N)为1-2.1,及吸光指数(K)(248nm或193nm波长测试)为0-1
(同时满足以下指标的用于集成电路生产的防反射薄膜生成液:挥发性有机物含量>700g/L,反射值(N)为1-2.1,及吸光指数(K)(248nm或193nm波长测试)为0-1) [Antireflection film-forming solution used in integrated circuit production meeting the following criteria: volatile organic content > 700g/L, reflectance (N) 1-2.1, and absorption index (K) (248nm or 193nm wavelength test) 0-1] |
0条 | 查看详情 | 对比-32099010.10 |