3209902020-海关编码，hs编码，hts- 同时满足以下指标的用于集成电路生产的防反射薄膜生成液：挥发性有机物含量＞700g/L，反射值（N）为1-2.1，及吸光指数（K）（248nm或193nm波长测试）为0-1 -hs code查询

商品编码	32099020.20 (增)
商品名称	同时满足以下指标的用于集成电路生产的防反射薄膜生成液：挥发性有机物含量＞700g/L，反射值（N）为1-2.1，及吸光指数（K）（248nm或193nm波长测试）为0-1
商品描述	同时满足以下指标的用于集成电路生产的防反射薄膜生成液：挥发性有机物含量＞700g/L，反射值（N）为1-2.1，及吸光指数（K）（248nm或193nm波长测试）为0-1
英文名称	Antireflection film-forming solution used in integrated circuit production meeting the following criteria: volatile organic content > 700g/L, reflectance (N) 1-2.1, and absorption index (K) (248nm or 193nm wavelength test) 0-1

CIQ代码(13位海关编码)

HS编码	商品信息
3209902020.301	同时满足以下指标的用于集成电路生产的防反射薄膜生成液：挥发性有机物含量＞700g/L，反射值（N）为1-2.1，及吸光指数（K）（248nm或193nm波长测试）为0-1（以氟树脂为基本成分）（属于危险化学品的涂料,有涂料适用国标的）
3209902020.302	同时满足以下指标的用于集成电路生产的防反射薄膜生成液：挥发性有机物含量＞700g/L，反射值（N）为1-2.1，及吸光指数（K）（248nm或193nm波长测试）为0-1（以氟树脂为基本成分）（不属于危险化学品的涂料,有涂料适用国标的）
3209902020.303	同时满足以下指标的用于集成电路生产的防反射薄膜生成液：挥发性有机物含量＞700g/L，反射值（N）为1-2.1，及吸光指数（K）（248nm或193nm波长测试）为0-1（以氟树脂为基本成分）（危险化学品,无涂料适用国标的）
3209902020.304	同时满足以下指标的用于集成电路生产的防反射薄膜生成液：挥发性有机物含量＞700g/L，反射值（N）为1-2.1，及吸光指数（K）（248nm或193nm波长测试）为0-1（以氟树脂为基本成分）（其他化工品,无涂料适用国标的）

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