商品编码 | 32081000.20 (增) |
商品名称 | 同时满足以下指标的用于集成电路生产的防反射薄膜生成液:挥发性有机物含量>700g/L,反射值(N)为1-2.1,及吸光指数(K)(248nm或193nm波长测试)为0-1 |
商品描述 | 同时满足以下指标的用于集成电路生产的防反射薄膜生成液:挥发性有机物含量>700g/L,反射值(N)为1-2.1,及吸光指数(K)(248nm或193nm波长测试)为0-1 |
英文名称 | Antireflection film-forming solution used in integrated circuit production meeting the following criteria: volatile organic content > 700g/L, reflectance (N) 1-2.1, and absorption index (K) (248nm or 193nm wavelength test) 0-1 |
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