商品编码 32099020.20 32099010.20
商品名称 同时满足以下指标的用于集成电路生产的防反射薄膜生成液:挥发性有机物含量>700g/L,反射值(N)为1-2.1,及吸光指数(K)(248nm或193nm波长测试)为0-1 同时满足以下指标的用于集成电路生产的防反射薄膜生成液:挥发性有机物含量>700g/L,反射值(N)为1-2.1,及吸光指数(K)(248nm或193nm波长测试)为0-1
申报要素 1:品名;2:品牌类型;3:出口享惠情况;4:成分含量;5:用途;6:施工状态下挥发性有机物含量(以“克/升”表示);7:品牌(中文或外文名称);8:型号;9:GTIN;10:CAS;11:其他; 1:品名;2:品牌类型;3:出口享惠情况;4:成分含量;5:用途;6:施工状态下挥发性有机物含量(以“克/升”表示);7:品牌(中文或外文名称);8:型号;9:GTIN;10:CAS;11:其他;
计量单位(第一/第二) 千克/无 千克/无
最惠国进口税率 -- --
普通进口税率 50% 50%
暂定进口税率 - -
进口消费税率 0% 0%
进口增值税率 13% 13%
出口从价关税率 - -
出口退税率 - -
海关监管条件 A A
检验检疫类别 M M
商品描述 同时满足以下指标的用于集成电路生产的防反射薄膜生成液:挥发性有机物含量>700g/L,反射值(N)为1-2.1,及吸光指数(K)(248nm或193nm波长测试)为0-1 同时满足以下指标的用于集成电路生产的防反射薄膜生成液:挥发性有机物含量>700g/L,反射值(N)为1-2.1,及吸光指数(K)(248nm或193nm波长测试)为0-1
英文名称 Antireflection film-forming solution used in integrated circuit production meeting the following criteria: volatile organic content > 700g/L, reflectance (N) 1-2.1, and absorption index (K) (248nm or 193nm wavelength test) 0-1 Antireflection film-forming solution used in integrated circuit production meeting the following criteria: volatile organic content > 700g/L, reflectance (N) 1-2.1, and absorption index (K) (248nm or 193nm wavelength test) 0-1